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更新時間：2024-08-07 
瀏覽次數(shù)：540超聲波清洗機是利用使用清潔劑和溶劑的化學力與使用振動和機械能的物理力的協(xié)同作用進行清洗的設備。
小型設備包括用于清潔眼鏡和配件的廉價家用設備、用于清潔實驗室中安裝的儀器以及用于制備化學品的內(nèi)置超聲波振蕩器的設備，以及將超聲波振蕩器放置在任意容器中的設備。
大型設備主要用于工業(yè)用途，例如工廠制造過程中使用的設備。清洗功率根據(jù)產(chǎn)生的超聲波而變化，因此需要根據(jù)目的選擇頻率和清洗劑。
大型超聲波清洗機可能會受到無線電法的限制，因此在安裝時，需要根據(jù)輸出功率等采取適當?shù)某绦颉?/span>基本上，輸出功率50W或以上的超聲波清洗機需要獲得高頻設備許可證。
大型超聲波清洗機大多用于工業(yè)用途。
主要用途包括金屬零件和樹脂的脫脂和清洗、去除拋光顆粒和灰塵、精密金屬零件、光盤、硬盤磁頭的清洗、玻璃基板的最終清洗、硅片的清洗。
清洗金屬部件等時采用低頻，對于硅片等則采用高頻。超聲波清洗機還用于消泡、脫氣、分散、攪拌、粉碎等。
當電能施加到一種稱為壓電陶瓷的特殊陶瓷時，陶瓷會膨脹和收縮。此時產(chǎn)生的振動被轉(zhuǎn)換為聲音，并且當該聲音的頻率增加到20kHz或更高時，產(chǎn)生超聲波。
對樣品施加超聲波振動產(chǎn)生氣泡，利用氣泡破裂時的沖擊（空化）產(chǎn)生的微射流水流來清洗樣品。
低頻超聲波用于金屬零件和樹脂的脫脂和清洗，以及精密金屬零件的清洗。空化產(chǎn)生的沖擊波甚至可以清潔頑固的污垢。使用高頻超聲波清潔半導體和硅晶片。空化發(fā)生的方式取決于液體深度和液體類型。
如果超聲波清洗處理不當，隔膜可能會惡化。
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